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HMDS涂胶机说明书 高性能HMDS预处理系统 真萍科技

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HMDS涂胶机说明书 高性能HMDS预处理系统 真萍科技详细说明

专业全自动HMDS真空烤箱 HMDS涂胶机说明书 高性能HMDS预处理系统 真萍科技

一、产品概述:

  HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

一、主要技术指标:

1. 机外壳采用冷扎钢板喷塑处理,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

2. 箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。

3. 微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。

4. 智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。

5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用质量优异的材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。

6 HMDS管路加热功能,使HMDS液体进入箱体的前端管路加热,使转为HMDS气态时更易。

7. 低液报警装置,采用红外液体感测器,能及时灵敏给出指令(当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能)

8. 温度与PLC联动保护功能(当PLC没有启动程序时,加温功能启动不了,相反加温功能启动时,PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能,发出警报)

9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料,整体使用无缝焊接(避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害)

二、整机尺寸、真空腔体尺寸:

1. 内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;

2. 载物托架:2块

3.室温+10℃-250℃   控温范围:温度分辨率:0.1℃   温度波动度:±0.5℃

4. 真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133pa,

5. 加热方式:腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板(防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态)

6. 可放2寸晶圆片或4寸晶圆片;6寸晶圆片;8寸晶圆片等。

7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间(正常工艺在50分钟-120分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为 常规降温)。

*技术细节变动之处,恕不另行通知,具体设备参数以咨询结果为准。

真萍科技是专业的从事热处理设备、烘烤制程设备、环境与可靠性试验设备、半导体黄光区设备,储存专业设备等产品专业供应商,由一批多年从事热工、真空,结构、半导体等行业的专业工程技术人员为**,具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业。

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